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    [衛(wèi)生法規(guī)]初戴上頜局部義齒時(shí) 如果發(fā)現(xiàn)彎制的后腭桿離開腭粘...
    
		
    
		  原題:
    [衛(wèi)生法規(guī)]初戴上頜局部義齒時(shí),如果發(fā)現(xiàn)彎制的后腭桿離開腭粘膜2mm，處理方法是
    細(xì)菌大量人血并繁殖，稱為
    答案：
    A
		
    
        

    
      
	

    	

    

    
  
    
    
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