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    [衛(wèi)生法規(guī)]初戴上頜局部義齒時(shí) 如果發(fā)現(xiàn)彎制的后腭桿離開腭粘...

    原題:
    [衛(wèi)生法規(guī)]初戴上頜局部義齒時(shí),如果發(fā)現(xiàn)彎制的后腭桿離開腭粘膜2mm,處理方法是
    初戴上頜局部義齒時(shí),如果發(fā)現(xiàn)彎制的后腭桿離開腭粘膜2mm,處理方法是
    A.不必處理
    B.腭桿組織面加自凝樹脂重襯
    C.腭桿組織面緩沖
    D.去腭桿,讓患者戴走
    E.取下腭桿,戴義齒取印模,在模型上重新加腭桿
    答案:
    E
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