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全口義齒的印模和模型是口腔執(zhí)業(yè)醫(yī)師考試《口腔修復(fù)學(xué)》考試大綱要求掌握的考點(diǎn)內(nèi)容,醫(yī)學(xué)教育網(wǎng)編輯整理了具體資料如下,希望對(duì)大家復(fù)習(xí)相關(guān)考點(diǎn)有所幫助。
全口義齒的印模和模型
1. 無牙頜的印模 全口義齒是以黏膜及其下部的骨組織作為支持,以義齒基托為固位的活動(dòng)義齒。取印模,就是將義齒基托覆蓋著的部分及與基托邊緣接觸的黏膜組織形態(tài)記錄下來。要求印模完整,無牙頜解剖標(biāo)志印跡清楚。
(1)取印模前的準(zhǔn)備
1)選擇印模材料:臨床最常用的是海藻酸鈉彈性印模材料和紅色印模膏。
海藻酸鈉彈性印模材料,取印模較清晰、準(zhǔn)確,易于從口腔內(nèi)整體取出。常用于一次印模法和二次印模法的終印模。
印模膏具有延展性和賦形性,不易變形,有助于取得如上頜結(jié)節(jié)頰側(cè)、舌側(cè)翼緣區(qū)后段的較深或隱蔽處的印模。因無彈性、流動(dòng)性差,不易取得微細(xì)結(jié)構(gòu)的印模,臨床多用于制作個(gè)別托盤(包括二次印模法的初印模)。
另外有硅橡膠印模材料,氧化鋅印模糊膏、印模石膏等,取得的印模都較清晰、準(zhǔn)確,因成本高,目前國內(nèi)臨床未廣泛使用。
2)選擇托盤:取無牙頜印模的托盤,是橢圓形底、無孔成品托盤,翼較短,與牙槽嵴形態(tài)相適宜。規(guī)格分1、2、3號(hào),1號(hào)最大,3號(hào)最小,2號(hào)適中。
取印模前,要根據(jù)患者頜弓的大小選擇托盤。要求托盤寬度比牙槽嵴頰、舌側(cè)各寬出2——3mm,翼緣距唇頰舌溝黏膜皺襞處低約2mm,各系帶處有相應(yīng)切跡。上頜托盤后緣兩側(cè)要蓋過翼上頜切跡,中部蓋過腭小凹后2mm(顫動(dòng)區(qū))處。下頜托盤后緣蓋過磨牙后墊區(qū)。
(2)取即模方法:有一次印模法和二次印模法。
一次印模法:是選擇合適的成品整體托盤,用海藻酸鈉彈性印模材料,在口腔內(nèi)一次完成印模的方法。取印模時(shí),醫(yī)生與患者的體位、操作步驟及方法,與可摘局部義齒取印模的要求相同。
二次印模法:用紅色印模膏先取初印模,制作出適合患者口腔情況的個(gè)別托盤,再用個(gè)別托盤,盛托海藻酸鈉彈性印模材料,取第二次印模即終印模的方法。
二次印模法制取的終印模,細(xì)致、準(zhǔn)確、清晰、邊緣伸展適度,適合患者口腔情況。因而完成的義齒,基托與黏膜密貼,邊緣封閉作用好。吸附力和大氣壓力的作用增強(qiáng),固位效果好。
(3)用印模膏制作個(gè)別托盤的方法
上頜:取一塊大小合適的紅色印模膏,放入盛有70℃左右水的容器中(為防止印模膏軟化后粘于容器上,可在容器底上襯兩層紗布或以紗布包裹印模膏)。待其充分軟化后用手捏勻,做成餅狀放入上頜托盤內(nèi)。向四周按壓,充滿托盤,腭部高些,頜弓區(qū)低些。如同取可摘局部義齒印模一樣,將托盤旋轉(zhuǎn)入口腔。托盤柄正對(duì)面部中線,托盤對(duì)準(zhǔn)牙槽嵴,輕輕加壓使其就位,用右手示指和中指固定托盤底。
在印模膏尚未完全硬固之前做肌功能整塑:左手拇指在口腔外,示指在口腔內(nèi),輕輕牽拉左側(cè)頰部向前下內(nèi)方做左頰側(cè)肌功能整塑。如法,左、右兩手交換,左手固定托盤,右手做右頰側(cè)肌功能整塑。最后用雙手中指固定托盤,拇指和示指將上唇向下內(nèi)方牽拉,做上唇肌功能整塑。
下頜:取印模的方法同上頜。托盤旋轉(zhuǎn)人口腔之后,兩手示指放在兩側(cè)前磨牙區(qū)的底部,兩手拇指分別固定在兩側(cè)舌下部,輕輕按壓使之就位。然后做舌的功能整塑,囑患者將舌尖抬高、前伸,左右擺動(dòng)。再做兩側(cè)頰部和下唇的肌功能整塑。方法同上頜,頰部的牽拉方向是向前上內(nèi),下唇是向上內(nèi)方。
操作過程中,如果印模膏變硬,可取出印模膏,將需要整塑的部位,用熱水燙軟,或在酒精燈上烤軟,再放回口腔內(nèi)修整,直到合適后取出,用冷水沖洗后備用。
上下頜印模制作完成并經(jīng)檢查符合要求后,用雕刻刀修去印模外圍過多的印模膏,在印模組織面和邊緣均勻刮除2mm左右厚的印模膏,并消除倒凹,制成個(gè)別托盤。
用舊義齒制作個(gè)別托盤:取印模前,將舊義齒戴在口腔內(nèi),檢查基托邊緣伸展是否合適。
過長處磨短,過短處用蠟加長。修整適合患者口腔情況后,再用其取工作印模。
2. 灌注模型
(1)灌注模型的方法和要求:同可摘局部義齒。脫模后,對(duì)模型進(jìn)行檢查:模型邊緣應(yīng)有一定寬度,以便反映出唇頰黏膜移行皺襞處的外形;模型要有適當(dāng)厚度,一般不少于10mm,防止模型折斷。
(2)上頜模型后堤區(qū)的處理:在修整好的上頜模型上,用鉛筆畫出兩側(cè)翼上頜切跡和腭小凹后2mm的連線。用雕刻刀沿著連線刻一深約l——1.5mm的溝,再沿此溝向前逐漸變淺呈楔形刮除石膏,最寬處約5mm,形成弓形后堤區(qū)。
(3)上頜后堤區(qū)的檢查:用口鏡柄沿腭小凹探壓兩側(cè)腭黏膜,一直壓至翼上頜切跡的黏膜溝處,有彈性部位即為后堤區(qū)。后堤區(qū)呈弓形,有的因腭中縫隆起明顯而使其中斷為兩個(gè)小弓形。依照檢查結(jié)果,用有色鉛筆在黏膜上畫出后堤區(qū)的范圍。在取得的終印模上即有鉛筆印記,用變色筆描記清楚,灌注工作模型時(shí),后堤區(qū)的范圍即可印在模型上。
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